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Insight

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·  CVD 기반 Si 나노와이어 음극은 성능은 우수하나 제조비용이 최소 수십 배 높고, 대량생산에 부적합하. 따라서 주로 고부가가치 특수분야(eVTOL, 드론, 위성 등)에 사용중.

·  SiOx는 가장 경제적이고 상용화에 적합한 실리콘계 음극재, 현재 EV 시장에서 양산.

·  SiC는 가격은 중간이나 구조 안정성과 수명 측면에서 하이사이클 또는 고온 안정성이 필요한 분야에서 연구중.


항목

CVD 방식 Si 나노와이어

습식 방식 SiOx

습식 방식 SiC

공정 방식

기상 증착 (고온반응기필요)

슬러리 제조 + 열처리

분산 혼합 + 반응소결

주요 장비

CVD 반응기, 고진공 시스템

볼밀, 스프레이 드라이어, 로터리 킬른

혼합기, 고온 소결로

원료 비용

SiH , 촉매(Ni) 등 고가

Si 나노파우더 + SiO (저가)

Si, C 분말 또는 SiC 분말

설비비용(CAPEX)

매우 높음(数백만달러/라인)

중간

낮음~중간

공정 시간

수시간~수십시간(로딩/증착포함)

수 시간 (건조, 열처리)

수 시간 (소결 포함)

스케일업

용이성

낮음 (CVD 라인 확장 한계)

높음

중간

환경/안전관리

비용

높음 (SiH는 폭발성)

낮음

낮음