<특허 레포트: 부피팽창을 넘어서는 차세대 Si 음극소재>
글로벌 실리콘계 음극재 기술 동향 및 시장 전망은, 최근 고에너지밀도
전지에 대한 수요가 빠르게 증가함에 따라 중요한 연구·개발 이슈로 부상하고 있다. 특히 SiO-SiC 복합 음극 기술을 중심으로 한 특허 조사 결과, 흑연 기반 음극재의 한계를 극복하고 차세대 에너지 저장 시스템을 구축하기 위한 실리콘계 음극재의 잠재성이 더욱
부각되고 있다.
먼저, 실리콘계 음극재 특허조사의 필요성은 크게 세 가지 측면에서
설명할 수 있다. 첫째, 지식재산권 보호와 기술적 주도권
확보가 중요한 배경으로 작용한다. 실리콘계 음극재가 기존 흑연 대비 높은 이론 용량을 지니면서도 반복
충·방전에서의 팽창 문제를 해결해야 한다는 특수성을 감안할 때, 기업들은
보다 세밀한 특허출원을 통해 경쟁사의 기술 방향을 파악하고 자사의 혁신 기술을 방어해야 한다. 특히, 미·중·한을 비롯한 여러
국가에서 실리콘계 복합 음극재와 관련된 특허 출원이 급증하고 있는 현실은 기업들이 지적재산권 분쟁에 휘말릴 가능성을 높인다. 둘째, 특허 분쟁이나 이슈 등을 사전에 파악하기 위해서, 기업들은 필수 특허를 분석하고 할 필요가 있다. 마지막으로, 대표적인 핵심 특허들이 만료될 시점과 그 공백을 어떻게 효율적으로 활용할지가 과제로 꼽힌다. 만약 SiO 기반 특허가 주요 시장을 선점하고 있다면, SiC 기반 복합 구조나 새로운 표면 코팅 기술을 개발해야 하기 때문이다.
실리콘 음극재 기술이 부상하게 된 배경으로는, 우선 전기차 주행거리
향상을 위한 고에너지밀도 전지 수요가 빠르게 늘어났다는 점을 들 수 있다. 전기차 시장이 급격히 성장하면서, 셀 단위에서 한 번의 충전으로 더 먼 거리를 주행하려는 요구가 높아졌다. 이에
따라 배터리 자체의 용량 향상이 핵심 경쟁력이 되었고, 흑연 대비 약
10배에 이르는 이론 용량을 갖춘 실리콘계 음극재가 유력한 대안으로 자리 잡았다. 이 과정에서
소재 구조 측면의 진화 또한 눈에 띄게 진행되었다. 초기에는 SiO 기반
복합체가 업계 주류였으나, 최근에는 전기전도성과 구조 안정성 면에서 우위가 있는 SiC 복합체가 빠르게 부상하고 있다. 이러한 추세에 따라, 단순히 ‘Core–Shell’ 방식으로 실리콘을 코팅하거나 복합화하던
기존의 접근법에서 벗어나, 실리콘 팽창을 효과적으로 흡수할 수 있는 ‘Yolk–Shell’
구조로 변화하는 연구도 활발해졌다. 아울러 중국을 필두로 소재 내재화 전략이 강화됨에 따라, 한국과 일본 기업들도 실리콘 음극재를 자체적으로 생산·조달하기 위한
준비에 나서고 있다.
끝으로, 실리콘 음극재 특허 분석 및 기술 발전 방향을 구체적으로
살펴보면, 핵심 특허 출원 분야는 크게 복합 구조 설계와 대량 생산 공정으로 나눌 수 있다. 복합 구조 설계에서는 SiC-SiO, Si/C, Si@C와 같은
구조 체계와 다공성 구조체 구현이 중요한 테마이다. 한국 기업인 LG에너지솔루션과
삼성SDI 역시 복합 구조 설계 및 계면 안정화 기술과 관련해 활발히 특허를 출원함으로써, 고에너지밀도 전지를 구현하기 위한 방법론을 넓혀가고 있다. 일본
신에쓰(Shin-Etsu)는 Si계 재료 합성과 표면 개질(Si/C coated)에 특화된 역량을 바탕으로, 실리콘계 음극재의
품질 및 수율 개선 방안을 집중적으로 연구 중이다.
결국, 실리콘계 음극재 특허 조사는 단순히 현재의 기술 현황을 파악하는 차원을 넘어, 향후 2차전지 산업의 핵심 경쟁력을 결정짓는 기반 작업이라 할 수
있다. 이를 통해 기업들은 자사 기술을 체계적으로 보호함은 물론, 빠르게
변화하는 시장에서 지속적인 혁신을 선도하는 발판을 마련할 수 있을 것으로 기대된다.
<출처 SNE research, ‘특허레포트_부피팽창을 넘어서는 차세대 Si음극소재’ 리포트: 유효특허수(노이즈제거후)>
본 보고서의 Strong Point
1.
흑연 대체 소재로서 실리콘 음극재의 특허 출원 현황과 경쟁사 기술 방향을 다각도로 분석함.
2.
미국, 중국,
한국, 일본 등 주요 국가별 특허 동향을 비교·정리.
3.
SiO 복합체 위주에서 SiC 복합체 및 Yolk–Shell 구조로 옮겨 가는 최신 연구·개발 흐름을 정리해, 시장 트렌드 변화를 한눈에 파악 가능
4.
기업별 (BTR, BYD, LG에너지솔루션, 삼성SDI, Shin-Etsu 등)
특허 비교
5. EV 배터리, ESS 등 배터리
산업 전반에 적용 가능한 실리콘계 음극재 기술을 망라하고 있어, 소재 기업, 배터리 제조사, 관련 연구기관 모두가 폭넓게 활용 가능
목차
1. 서론
1.1 분석 배경 및 목적 04
1.2 실리콘 음극소재의 개요 06
1.2.1 실리콘 음극재의 구조
1.2.2 Si/SiO/SiC 란?
1.2.3 실리콘 음극재의 단점
1.3 실리콘 음극재의 발전사 13
1.3.1 실리콘 음극재의 단점 해결방안
1.4 특허범위 및 조사방법 15
2. 특허출원 동향 소개
2.1 Raw Data / 유효특허 선정 17
2.2 연도별 특허출원 동향 20
2.3 국가별 출원인 동향 26
2.4 기술성장단계 27
2.5 주요 출원국가 출원 동향 29
2.6 주요 출원인 출원 동향 30
3. 핵심특허 소개
3.1 핵심특허 리스트 및 기술 분류 32
3.2 핵심특허 동향 파악 54
3.3 양도, 분쟁특허 소개 57
4. 결론 & Appendix
4.1 주요 핵심 특허 70
4.1.1 Sila 72
4.1.2 GROUP14 74
4.1.3 Shenzhen 76
4.1.4 레조낙 78
4.1.5 ENEVATE 80
4.1.6 Stanford 82
4.1.7 대주전자 84
4.1.8 신에쓰 86
4.1.9 비티알 88
4.1.10 엘지화학 90
4.1.11 SDI 92
4.2 결론 및 시사점 94
4.3 Appendix 1. 핵심특허 요지 리스트 99-436